高分辨率纳米压印模板(Mold for nanoimprint lithography)技术参数:
Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials(Si,SiNx,SiC,quartz,glass).Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.
提供各种材料的纳米压印模板(硅,氮化硅,碳化硅,石英玻璃)。模板zui大尺寸:4英寸,特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸,zui小的特征尺寸可以达到50nm。
DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.
提供zui低30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板:任何导电或者非导电晶片。
MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.
各种纳米结构(硅,III-V族元素,II-VI族元素以及聚合物)的微纳米加工。
高分辨率纳米压印模板(Mold for nanoimprint lithography)主要特点:
softmoldforthermalnanoimprint热压印的软模板
quartzmoldforUVnanoimprint紫外压印的石英模板
siliconmoldforthermalnanoimprint热压印的硅模板
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